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立式LPCVD低壓氣相沉積爐

◎ 詳情介紹

一、設(shè)備概述:

立式LPCVD低壓化學(xué)氣相淀積設(shè)備是半導(dǎo)體集成電路制造的重要工序之一,本設(shè)備主要用于:8-12英寸硅片SiO2-LTO TEOS、SIPOS-含氧多晶硅、SI3N4-氮化硅、BPSG-磷硅玻璃、POLY-多晶硅、TEOS-氧化硅薄膜的生長(zhǎng)。它是將原材料氣體(或者液態(tài)源氣化)用熱能激活發(fā)生化學(xué)反應(yīng)而在基片表面生成固體薄膜。低壓化學(xué)氣相淀積是在低壓下進(jìn)行的,由于氣壓低,氣體分子平均自由程大,使生長(zhǎng)的薄膜均勻性好,而且基片可以豎放而裝片量大,特別適用于大規(guī)模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件和光導(dǎo)纖維等行業(yè)的工業(yè)化生產(chǎn)專用設(shè)備,采用電腦工控機(jī)軟件控制方式,是其性能技術(shù)指標(biāo)已經(jīng)達(dá)到國(guó)際先進(jìn)技術(shù)水平。

 

二、設(shè)備參數(shù)類型:

設(shè)備性能指標(biāo)

1

操作方式

立式

2

管路數(shù)

1管

3

加工晶圓尺寸

6-12寸

4

適用工藝

SiO2-LTO TEOS、SIPOS-含氧多晶硅、SI3N4-氮化硅、BPSG-磷硅玻璃、POLY-多晶硅、TEOS-氧化硅

5

淀積薄膜均勻性

IW≤2%,W2W≤3%,R2R/D2D≤4%

6

溫度校準(zhǔn)功能

具有自動(dòng)校準(zhǔn)溫區(qū)功能,具有預(yù)先寫入偏差值快速拉溫區(qū)功能

7

控溫模式

Spike控溫+Profile串級(jí)控溫

8

控制系統(tǒng)結(jié)構(gòu)

一體工控機(jī)+PLC

9

系統(tǒng)極限真空度:

10 mTorr 

10

工作壓力范圍:

10 mTorr~500mTorr可調(diào)

11

報(bào)警保護(hù):

具有超溫報(bào)警,斷偶報(bào)警,氣體互鎖,氣體緩啟動(dòng)等功能


三、設(shè)備主要特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)

1★具有強(qiáng)大的操作功能,windows界面,顯示屏操作,用戶可以方便地修改工藝控制參數(shù),并可隨時(shí)顯示各種工藝狀態(tài);配有故障自診斷軟件,可大大節(jié)省維修時(shí)間;

2★采用可靠性工控機(jī)+PLC模式,對(duì)爐溫、進(jìn)退舟、氣體流量、閥門進(jìn)行全自動(dòng)控制,實(shí)現(xiàn)全部工藝過(guò)程自動(dòng)化;

3★程序可以實(shí)現(xiàn)手/自動(dòng)工作,在停電或中途停機(jī)后,再次啟動(dòng)可以根據(jù)工藝手動(dòng)升溫,節(jié)省工藝時(shí)間;

4★具有多種工藝管路,可供用戶方便選擇;

5★推拉舟控制采用高速脈沖閉環(huán)控制,避免馬達(dá)丟步,運(yùn)行顫抖現(xiàn)象。推拉舟運(yùn)行完一個(gè)周期,自動(dòng)校準(zhǔn)位置,有效防止定位偏差;

6★氣體流量控制精確,采用模擬信號(hào)閉環(huán)控制,強(qiáng)弱電分開,各種數(shù)據(jù)交互采用標(biāo)準(zhǔn)總線,提高抗干擾能力,保證數(shù)據(jù)安全;氣體打開具有緩啟動(dòng)功能;

7★具有多種報(bào)警功能及安全保護(hù)功能;
8★恒溫區(qū)自動(dòng)調(diào)整,串級(jí)控制,可準(zhǔn)確控制反應(yīng)管的實(shí)際工藝溫度;

◎ 企業(yè)簡(jiǎn)介

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青島育豪微電子設(shè)備有限公司創(chuàng)建于2008年,是集研發(fā)、制造、銷售為一體的高新技術(shù)企業(yè),育豪公司致力于電加熱爐設(shè)備、加熱爐體熱場(chǎng)、石墨治具加工領(lǐng)域,產(chǎn)品服務(wù)于各類電子器件行業(yè)、半導(dǎo)體材料行業(yè)、太陽(yáng)能光伏行業(yè)等相關(guān)領(lǐng)域。

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育豪公司系國(guó)家級(jí)高新技術(shù)企業(yè),省專精特新企業(yè)、擁有企業(yè)商標(biāo)注冊(cè)權(quán)、進(jìn)出口經(jīng)營(yíng)權(quán),已通過(guò)ISO9001質(zhì)量管理體系認(rèn)證,擁有各種專利50+項(xiàng)。

◎ 企業(yè)資質(zhì)

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